點擊圖片查看大圖是一款可靠的采用X-射線熒光方法和獨特的微聚焦X-射線光學方法來測量和分析微觀結構鍍層的測量系統(tǒng)。
可應用于在線膜厚測量,測氧化物,SiNx,感光保護膜和半導體膜.也可以用來測量鍍在鋼,鋁,銅,陶瓷和塑料等上的粗糙膜層. 薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉,干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數等有關,因此可通過計算得到薄膜的厚度.光干涉法是一種無損,精確且快速的光學薄膜厚度測量技術,薄膜測量系統(tǒng)采用光干涉原理測量薄膜厚度。
半導體美國BOWMAN X射線熒光膜厚測試儀
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